HCL 系列為全金屬密封結(jié)構(gòu)的電子束蒸發(fā)源,適用于超高真空(UHV)環(huán)境。提供 3 至 5 甚至更多坩堝配置,可實(shí)現(xiàn)最多 5 種以上材料的順序蒸發(fā)沉積。標(biāo)準(zhǔn)安裝方式為 12 英寸外徑 CF 法蘭,適用于大容量配置。對(duì)于 15cc 及以下坩堝容量,支持 10 英寸外徑 CF 法蘭安裝。
該系列標(biāo)配自動(dòng)坩堝定位系統(tǒng)(Auto Indexer)及完整的機(jī)械、電氣連接接口,適用于多材料高純沉積工藝需求,如光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體制程和科研實(shí)驗(yàn)。
主要特點(diǎn):
超高真空兼容(UHV Compatible):金屬密封設(shè)計(jì),基準(zhǔn)極限壓力達(dá) 2 × 10?11 Torr
270° 電子束偏轉(zhuǎn)角:燈絲完全隱藏,有效避免顆粒短路
燈絲更換方便:專用對(duì)準(zhǔn)工具確保更換時(shí)對(duì)準(zhǔn)精度,無(wú)需復(fù)雜調(diào)整
永磁主束定位系統(tǒng):使用永磁進(jìn)行主束位置控制,電磁線圈用于精細(xì)掃描與微調(diào)
強(qiáng)力冷卻能力:高穩(wěn)定性冷卻結(jié)構(gòu),確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行
標(biāo)準(zhǔn)安裝法蘭尺寸:
坩堝容量 | 標(biāo)準(zhǔn)安裝法蘭 |
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≤ 15cc | 10 英寸外徑 CF 法蘭 |
> 15cc | 12 英寸外徑 CF 法蘭(默認(rèn)) |
技術(shù)規(guī)格:
參數(shù) | 數(shù)值 |
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最大功率 | 15 kW |
發(fā)射電壓 | -6 ~ -15 kV |
發(fā)射電流 | 0 ~ 1 A(連續(xù)可調(diào)) |
燈絲功率 | 700 W |
電子束偏轉(zhuǎn) | 270° |
電子束光斑尺寸 | ≈ 0.25 英寸直徑 |
蒸發(fā)速率 | 1 克/分鐘(@10kW),36,000 ?/min(鋁@250mm距基材) |
冷卻水需求 | 3 gpm,25 psi 差壓 |
坩堝材質(zhì) | OFE 高純銅 |
烘烤溫度 | 230°C |
坩堝容量選項(xiàng):
標(biāo)準(zhǔn)容量:7 cc、15 cc、25 cc、40 cc、75 cc
支持定制坩堝容量與結(jié)構(gòu)(可根據(jù)項(xiàng)目需求定制)