Thermionics 的多坩堝電子束蒸發(fā)槍™系統(tǒng)為超高真空（UHV）應(yīng)用中需要多材料源的工藝提供了無(wú)與倫比的靈活性。該系統(tǒng)采用高效的材料切換設(shè)計(jì)，最大化沉積的精確度，同時(shí)減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間，特別適用于航空航天、光學(xué)及前沿科研等領(lǐng)域。

Hydra™ 靜態(tài)系列通過(guò)高效利用空間，實(shí)現(xiàn)對(duì)四種及以上不同材料的復(fù)雜共沉積工藝及共蒸發(fā)。獨(dú)特的模塊化磁體設(shè)計(jì)使電子束效率更高。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃描技術(shù)消除了電子束隧穿現(xiàn)象和材料噴濺。插拔式發(fā)射極組件和掃描線圈組件讓維護(hù)更便捷。

• 易于調(diào)整燈絲位置，更高效的電子準(zhǔn)直

• 燈絲變形極小，消除電子尾跡

• 非常適合共蒸發(fā)工藝

專利號(hào)： 4,835,789；4,891,291；4,947,404

主要特點(diǎn)

• 可同時(shí)操作六種不同材料（可按需提供更多坩堝設(shè)計(jì)）

• 全金屬密封，完全兼容超高真空（UHV），實(shí)測(cè)基礎(chǔ)壓力：2×10?11 Torr

• Hydra™ 設(shè)計(jì)消除了鄰近源的相互干擾

• 專利磁體設(shè)計(jì)允許緊密排列多個(gè)蒸發(fā)源，實(shí)現(xiàn)均勻涂層及材料間良好互動(dòng)

• 每個(gè)坩堝源獨(dú)立水冷，防止蒸汽積聚

• 每個(gè)坩堝配備獨(dú)立掃描線圈，確保各源獨(dú)立運(yùn)行，消除鄰近源間串?dāng)_干擾

• 可拆卸坩堝煙囪設(shè)計(jì)，便于清理沉積物

• 水冷發(fā)射極底板及坩堝

• 提供10 kW和15 kW功率版本

• 坩堝容量選項(xiàng)：10 cc、15 cc、40 cc（可定制）

• 270°電子束偏轉(zhuǎn)，燈絲保護(hù)罩防止顆粒污染

• 支持動(dòng)態(tài)坩堝設(shè)計(jì)

• 發(fā)射極組件易拆卸設(shè)計(jì)

• Thermionics Hyper-Unimelt 掃描設(shè)計(jì)（低速或高速沉積均實(shí)現(xiàn)最佳控制）

• 提供水平和垂直安裝法蘭設(shè)計(jì)

其他優(yōu)點(diǎn)

• 消除電子束彎曲

• 配備UHV等級(jí)掃描線圈（200 Hz）

• 取消磁極片設(shè)計(jì)

• 易于燈絲調(diào)節(jié)

• 更高效的電子準(zhǔn)直

• 最小化燈絲變形

• 消除電子尾跡

• 全封閉發(fā)射極組件，防止顆粒積聚

• 每個(gè)蒸發(fā)源獨(dú)立水冷

• 設(shè)計(jì)上消除源間串?dāng)_