模塊化磁體
Hanks HM2旋轉(zhuǎn)多腔電子槍設(shè)計采用了獨特的模塊化磁體概念。該設(shè)計使得設(shè)備結(jié)構(gòu)非常緊湊。所有Hanks HM2系列的獨特功能均被集成于此型號。
Hyper-Unimelt 掃描技術(shù)（低速或高速均可實現(xiàn)最佳控制）
高頻掃描（0-200 Hz）為用戶提供了極大靈活性，通過旋轉(zhuǎn)X-Y掃描控制器的旋鈕，即可調(diào)節(jié)電子束的尺寸以適應(yīng)不同蒸發(fā)材料。該功能對光學(xué)涂層及其他對電子束尺寸要求較高的材料尤為重要，能實現(xiàn)從1-2 ?到極高沉積速率的最佳控制。
技術(shù)規(guī)格
| 參數(shù) | 6 kW | 10 kW |
|---|---|---|
| 輸出功率 | 6 kW | 10 kW |
| 電子束電壓 | 7.5 kV | 10 kV |
| 電子束電流 | 0 ~ 800 mA | 0 ~ 1.0 A |
| 坩堝容量 | 7 cc / 10 cc / 15 cc | 7 cc / 10 cc / 15 cc / 25 cc |
| 絲束 | 12 VAC，60A | 12 VAC，60A |
| 電子束偏轉(zhuǎn)角度 | 270? | 270? |
| 蒸發(fā)速率 | 10 kW功率下約1克/分鐘 | 10 kW功率下約1克/分鐘 |
| 25厘米處沉積速率約3.6微米/分鐘 | 25厘米處沉積速率約3.6微米/分鐘 | |
| 電子束光斑尺寸 | 約0.25英寸圓形（可通過掃描控制器電調(diào)節(jié)定位） | 約0.25英寸圓形（可通過掃描控制器電調(diào)節(jié)定位） |
| 坩堝材質(zhì) | OFE銅 | OFE銅 |
| 烘烤溫度 | 120°C（250°F） | 120°C（250°F） |
| 冷卻水流量 | 3.0 gpm（過濾水）70 psi | 3.0 gpm（過濾水）70 psi |
| 最小冷卻水管徑 | 3/8英寸直徑（6/10 kW型號） | 3/8英寸直徑（6/10 kW型號） |
| 壓力差 | 最小50 psi | 最小50 psi |
| X和Y方向掃描 | Hyper-Unimelt掃描（0至超過200 Hz） | Hyper-Unimelt掃描（0至超過200 Hz） |
