電子槍™

電子束槍或 e-Gun™ 是一種高精度儀器，利用熱能或場(chǎng)發(fā)射機(jī)制發(fā)射電子，設(shè)計(jì)用于高真空 （HV） 和超高真空 （UHV） 應(yīng)用。Thermionics 設(shè)計(jì)的 e-Gun™ 將耐用性、效率和可靠性相結(jié)合，以支持您最先進(jìn)的應(yīng)用，包括編碼沉積材料加工。

利用電子束技術(shù)，各行各業(yè)能夠?qū)崿F(xiàn)精確的蒸發(fā)速率，從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造、航空航天和儲(chǔ)能領(lǐng)域的創(chuàng)新。無(wú)論是用于研究還是工業(yè)生產(chǎn)，我們的技術(shù)都能以準(zhǔn)確的方式實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新。

我們的 e-Gun™ 多孔系統(tǒng)為需要多種材料源的 UHV 應(yīng)用提供了無(wú)與倫比的多功能性。這些裝置專為高效的材料標(biāo)定而設(shè)計(jì)，可最大限度地提高沉積精度，同時(shí)減少停機(jī)時(shí)間，是航空航天、光學(xué)和高級(jí)研究應(yīng)用的理想選擇。

系列：Hanks

我們的高效 Hanks HM2 e-Guns™ 提供獲得專利和屢獲殊榮的模塊化磁束聚焦系統(tǒng)，具有增強(qiáng)的光束準(zhǔn)直功能，可消除光束卷曲。

HM2 e-Gun™ 的尺寸也是標(biāo)準(zhǔn) e-Gun 的 2/3，磁效率提高了 350%

Hanks HM2 多口袋電子槍™

我們的高效 Hanks HM2 e-Guns™ 提供獲得專利和屢獲殊榮的模塊化磁束聚焦系統(tǒng)，具有增強(qiáng)的光束準(zhǔn)直功能，可消除光束卷曲。我們創(chuàng)新的 Hanks HM2 Hydra 設(shè)計(jì)由一 （1） 或兩 （2） 個(gè)緊湊的坩堝和發(fā)射器陣列組成，它們彼此線性平移，可同時(shí)提供多達(dá)六種不同材料的共沉積。

特征：

• 優(yōu)化的發(fā)射器和掃頻線圈組件
• 消除極片 – 垂直安裝的磁鐵可產(chǎn)生更少的磁通量
• 0-200 Hz 掃描，可重復(fù)，均勻蒸發(fā)，無(wú)“隧道”和源材料噴發(fā)
• 精確穩(wěn)定的蒸發(fā)速率，低至 1-2 A/sec
• 比傳統(tǒng)蒸發(fā)源小 35%，具有相同的體積、蒸發(fā)速率和功率容量
• 采用 HV [2×10^-9Torr] 和 UHV [2×10^-11托爾]
• 非常適合順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)
• 提供電源、坩堝襯墊和其他附件

模型：

• 單— 7 cc 至 156 cc 單坩堝 / 1 發(fā)射器 – 6-20 kW
• 單轉(zhuǎn)臺(tái)— 7 cc 至 25 cc – 4 個(gè)坩堝 / 1 個(gè)發(fā)射器 – 6 & 10 kW
• 雙™— 10 cc， 15 cc， 40 cc – 2 個(gè)坩堝 / 2 個(gè)發(fā)射器 – 10 & 15 kW
• 三合會(huì)™— 10 cc， 15 cc， 40 cc – 3 坩堝 / 3 發(fā)射器 – 6 & 10 kW
• 四™— 10 cc， 15 cc， 40 cc – 4 坩堝 / 4 發(fā)射器 – 6 & 10 kW
• Hydra-1™— 5 個(gè)坩堝 / 1-3 個(gè)發(fā)射器的單個(gè)陣列（有關(guān)詳細(xì)信息，請(qǐng)參閱下面的 Hydra 描述）
• Hydra-2™— 5 個(gè)坩堝 / 1-3 個(gè)發(fā)射器的雙陣列，總共 10 個(gè)坩堝 / 2-6 個(gè)發(fā)射器（有關(guān)詳細(xì)信息，請(qǐng)參閱下面的 Hydra 描述）

Hanks HM2 Hydra 電子槍™

我們創(chuàng)新的 Hanks HM2 Hydra 設(shè)計(jì)由一 （1） 或兩 （2） 個(gè)緊湊的坩堝和發(fā)射器陣列組成，它們彼此線性平移，可同時(shí)提供多達(dá)六種不同材料的共沉積。

Hydra 配置對(duì)空間的有效利用允許在單個(gè)真空抽真空中實(shí)現(xiàn)六坩堝的四 （4） 種不同組合和多達(dá)四十二種兩種金屬組合的排列，用于共沉積。

Hydra 消除了相鄰源的相互作用，無(wú)需復(fù)雜的光束方向和笨重的場(chǎng)分流組件。因此，共蒸發(fā)設(shè)計(jì)允許靠近源，以實(shí)現(xiàn)均勻的涂層和材料相互作用。此外，每個(gè)水源的單獨(dú)水冷可防止蒸汽積聚，并為每個(gè)水源包含單獨(dú)的清掃盤(pán)管，并促進(jìn)每個(gè)水源的運(yùn)行參數(shù)與相鄰水源的完全獨(dú)立性。

Hydra-1 & 2規(guī)格