Hanks HM2 多坩堝電子束蒸發(fā)槍™
Thermionics 的高效Hanks HM2電子槍™采用專利模塊化磁體束聚焦系統(tǒng)，提升束流準直，消除束流卷曲。創(chuàng)新的Hanks HM2 Hydra設計由一個或兩個緊湊的坩堝與電子發(fā)射器陣列組成，陣列可相互線性移動，實現(xiàn)最多六種不同材料的同步共沉積。
HM2電子槍™的尺寸比傳統(tǒng)電子槍小35%，但具有等同的容積、蒸發(fā)速率和功率容量。
主要特點
優(yōu)化的發(fā)射器和掃描線圈組件
取消極靴，垂直安裝磁體降低磁通量損失
0-200 Hz高頻掃描，實現(xiàn)重復性好、均勻的蒸發(fā)，無“隧穿”效應及材料噴濺
精確穩(wěn)定的蒸發(fā)速率，低至1-2 ?/秒
提供高真空（HV，2×10?? Torr）和超高真空（UHV，2×10?11 Torr）版本
適合順序蒸發(fā)及共蒸發(fā)
可選配電源、坩堝內(nèi)襯及其他配件
型號規(guī)格
| 型號 | 坩堝數(shù)量 | 坩堝體積(cc) | 發(fā)射器數(shù)量 | 功率(kW) |
|---|---|---|---|---|
| Single | 1 | 7 – 156 | 1 | 6 – 20 |
| Single Rotary | 4 | 7 – 25 | 1 | 6, 10 |
| Twin™ | 2 | 10, 15, 40 | 2 | 10, 15 |
| Triad™ | 3 | 10, 15, 40 | 3 | 6, 10 |
| Quadra | 4 | 10, 15, 40 | 4 | 6, 10 |
| Hydra-1™ | 1陣列 | 5個坩堝 | 1-3 | 詳見下文 |
| Hydra-2™ | 2陣列 | 共10個坩堝 | 2-6 | 詳見下文 |
Hanks HM2 Hydra動態(tài)源電子束蒸發(fā)槍
創(chuàng)新的Hydra設計包括一個或兩個緊湊坩堝陣列，陣列間線性可移動，支持最多6種材料的同步共沉積。
Hydra設計高效利用空間，提供4種不同的6坩堝組合方式及多達42種雙金屬組合排列，單次真空泵下完成多材料共蒸發(fā)。
Hydra消除了相鄰蒸發(fā)源之間的相互干擾，無需復雜的束流方向控制和笨重的磁場旁路元件。緊鄰的蒸發(fā)源實現(xiàn)均勻涂層和材料相互作用。
每個蒸發(fā)源均獨立水冷，防止蒸汽積聚；獨立的掃描線圈確保各源參數(shù)相互獨立，避免交叉干擾。
Hydra-1與Hydra-2技術參數(shù)
| 特性 | 10 kW型號 | 15 kW型號 |
|---|---|---|
| 最大功率 | 10 kW | 15 kW |
| 坩堝體積 | 10/15 cc | 40 cc |
| 發(fā)射電壓 | 10 kV | 10 kV |
| 發(fā)射電流 | 0 – 1.0 A | 0 – 1.5 A |
| 燈絲功率 | 700 W | 700 W |
| 電子束偏轉角度 | 220° | 220° |
| 電子束斑點尺寸 | 直徑0.25英寸 | 直徑0.25英寸 |
| 蒸發(fā)速率（鋁） | 10 kW時1克/分鐘，25cm處3.6微米厚 | 15 kW時1.5克/分鐘，5萬埃/分鐘 |
| X、Y掃描 | Hyper-Unimelt掃描（0-200 Hz） | Hyper-Unimelt掃描（0-200 Hz） |
| 冷卻用水 | 3.0 gpm/坩堝，共同回路（最高30 gpm） | 3.0 gpm/坩堝，共同回路（最高30 gpm） |
| 坩堝材料 | OFE銅 | OFE銅 |
| 烘烤溫度 | 230°C (446°F) | 230°C (446°F) |
| 電子槍尺寸-單陣列 | 6.25″ × 5.5″ × 15″ | 6.25″ × 5.75″ × 15″ |
| 電子槍尺寸-雙陣列 | 6.25″ × 11″ × 15″ | 6.25″ × 11.5″ × 15″ |
電源
10 kW型號：10kW+電子槍電源
15 kW型號：12kW電子槍電源
