Thermionics 超高真空電子槍 Hanks HM2 Hydra™ 多發(fā)射極、多坩堝、靜態(tài)電子束蒸發(fā)槍 消除了電子束隧穿現(xiàn)象和材料噴濺

Thermionics 的多坩堝電子束蒸發(fā)槍™系統(tǒng)為超高真空（UHV）應用中需要多材料源的工藝提供了無與倫比的靈活性。該系統(tǒng)采用高效的材料切換設計，最大化沉積的精確度，同時減少設備停機時間，特別適用于航空航天、光學及前沿科研等領域。

Hydra™ 靜態(tài)系列通過高效利用空間，實現(xiàn)對四種及以上不同材料的復雜共沉積工藝及共蒸發(fā)。獨特的模塊化磁體設計使電子束效率更高。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃描技術消除了電子束隧穿現(xiàn)象和材料噴濺。插拔式發(fā)射極組件和掃描線圈組件讓維護更便捷。

  • 易于調(diào)整燈絲位置，更高效的電子準直

  • 燈絲變形極小，消除電子尾跡

  • 非常適合共蒸發(fā)工藝

專利號： 4,835,789；4,891,291；4,947,404

主要特點

  • 可同時操作六種不同材料（可按需提供更多坩堝設計）

  • 全金屬密封，完全兼容超高真空（UHV），實測基礎壓力：2×10?11 Torr

  • Hydra™ 設計消除了鄰近源的相互干擾

  • 專利磁體設計允許緊密排列多個蒸發(fā)源，實現(xiàn)均勻涂層及材料間良好互動

  • 每個坩堝源獨立水冷，防止蒸汽積聚

  • 每個坩堝配備獨立掃描線圈，確保各源獨立運行，消除鄰近源間串擾干擾

  • 可拆卸坩堝煙囪設計，便于清理沉積物

  • 水冷發(fā)射極底板及坩堝

  • 提供10 kW和15 kW功率版本

  • 坩堝容量選項：10 cc、15 cc、40 cc（可定制）

  • 270°電子束偏轉，燈絲保護罩防止顆粒污染

  • 支持動態(tài)坩堝設計

  • 發(fā)射極組件易拆卸設計

  • Thermionics Hyper-Unimelt 掃描設計（低速或高速沉積均實現(xiàn)最佳控制）

  • 提供水平和垂直安裝法蘭設計

其他優(yōu)點

  • 消除電子束彎曲

  • 配備UHV等級掃描線圈（200 Hz）

  • 取消磁極片設計

  • 易于燈絲調(diào)節(jié)

  • 更高效的電子準直

  • 最小化燈絲變形

  • 消除電子尾跡

  • 全封閉發(fā)射極組件，防止顆粒積聚

  • 每個蒸發(fā)源獨立水冷

  • 設計上消除源間串擾


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