QNW 支架 光學(xué)支架 精密溫控樣品池支架 t40/TLC40單樣品池支架

支架 光學(xué)支架 精密溫控樣品池支架 t40/TLC40單樣品池支架

精密溫控樣品池支架：-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴(kuò)展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST（QNW）公司生產(chǎn)光譜分析用的溫控樣品池支架，可以在很寬的溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的溫度控制，幾乎可以為任一光譜分析應(yīng)用提供單個(gè)或多個(gè)溫控樣品支架，新一代溫控樣品池支架，可以用于紫外/可見(jiàn)光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態(tài)吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學(xué)。也可提供定制選項(xiàng)。

 

特點(diǎn)

  • 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
  • 快速改變溫度，在需要的溫度范圍內(nèi)降低溫度變化速率
  • 可在非常高或低的溫度范圍內(nèi)工作
  • 可使用腳本自動(dòng)控制溫度變化
  • 通過(guò)磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
  • 每種型號(hào)都可以定制以適合不同的光譜儀要求
  • 使用熱敏電阻探測(cè)器記錄內(nèi)部樣品溫度

t40 單樣品池支架，吸收應(yīng)用

t40 是一款單樣品池支架，帶兩個(gè)光學(xué)端口，主要用于吸收應(yīng)用。

  • 可定制以適合不同的光譜儀要求
  • 可調(diào)速度的磁性攪拌確保樣品溫度均勻一致
  • 低溫工作時(shí)可使用干燥空氣降低冷凝
  • 極低溫度使用可選配隔熱罩
  • 溫度范圍：-40 ~ +110 oC
  • 溫度精度：±0.01 oC

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