標(biāo)準(zhǔn) PLD 系統(tǒng)
PREVAC 標(biāo)準(zhǔn) PLD 系統(tǒng)由一個(gè)沉積過(guò)程腔體與一個(gè)裝載倉(cāng)（Load-lock）組成，方便快速地加載樣品。
這款獨(dú)立式脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)適用于生長(zhǎng)鐵磁薄膜、陶瓷氧化物、高溫超導(dǎo)材料、金屬多層膜等。
特點(diǎn)與描述：
適用于大多數(shù) PLD 生長(zhǎng)工藝研究需求的多功能解決方案
支持生長(zhǎng)材料類型包括：
鐵磁薄膜
陶瓷氧化物
高溫超導(dǎo)材料
金屬多層膜等
垂直式 PLD 工藝幾何結(jié)構(gòu)
可配置 EXCIMER 激光器或 YAG 激光器，并配套激光光路引導(dǎo)系統(tǒng)
1~4 軸電動(dòng)或手動(dòng)樣品操控器（帶接收平臺(tái)），加熱溫度最高可達(dá) 1400°C（采用高穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的固體 SiC 加熱元件）
不同尺寸的樣品托架可選：從 10×10 mm 到 2 英寸
六位靶材操控器，支持原位靶材自動(dòng)更換系統(tǒng)
靶材托架尺寸：1 英寸或 2 英寸
靶材與樣品的全自動(dòng)或手動(dòng)傳輸系統(tǒng)
基準(zhǔn)真空度范圍：1×10?? 到 5×10?11 mbar（視泵系統(tǒng)配置而定）
腔體直徑：? 490 mm，具備多個(gè)附加接口
多種泵浦系統(tǒng)組合（前級(jí)泵、分子渦輪泵、離子泵和鈦升華泵）
真空計(jì)及相應(yīng)配件
配備 Z 軸操控器的石英晶體監(jiān)控器，用于沉積速率與膜厚監(jiān)測(cè)（可測(cè)焦點(diǎn)位置）
Load-lock 腔體可同時(shí)傳輸樣品和靶材
快速可靠的線性傳輸系統(tǒng)，用于從 Load-lock 向過(guò)程腔體傳輸
帶遮光裝置的觀察窗口
集成吹掃管線的水冷系統(tǒng)，用于升溫前準(zhǔn)備
系統(tǒng)烘烤組件
可調(diào)式剛性主框架結(jié)構(gòu)
配備電子單元的 19 英寸控制柜
選項(xiàng)
電動(dòng)或手動(dòng)遮光器（跟隨樣品，可用于斜向?qū)踊蜓谀こ练e）
激光功率傳感器
附加存儲(chǔ)腔體
內(nèi)置防護(hù)罩
交叉污染防護(hù)罩
真空手提箱（傳輸箱），帶有連接至 Load-lock 腔體的接口
附加氣體輸送系統(tǒng)（例如用于反應(yīng)性沉積工藝）
殘余氣體分析儀（RGA）
束流通量監(jiān)測(cè)器（Beam Flux Monitor）
加熱觀察窗（用于診斷設(shè)備）
高溫計(jì) / 光學(xué)高溫測(cè)溫儀（Pyrometer）
橢偏儀（Ellipsometer）
通過(guò) PLC 控制單元與 Synthesium 軟件實(shí)現(xiàn)對(duì)沉積工藝與整套設(shè)備的全流程控制
