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波蘭PREVAC Standard PES systems光電子能譜系統(tǒng),分析各種納米材料
波蘭PREVAC 032 PRIMS basic MS system磁控濺射系統(tǒng)
波蘭PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)
波蘭PREVAC BCU14烘烤加熱控制單元,專用于真空系統(tǒng)加熱區(qū)
波蘭PREVAC VCH-10高亮真空室,用于照亮 UHV 系統(tǒng)內(nèi)的樣品區(qū)域
波蘭PREVAC MG15離子多規(guī)控制器,支持有源壓力表及無源壓力表
波蘭 PREVAC MOKE systems
波蘭 PREVAC AFM/STM systems 掃描隧道顯微鏡(STM)與原子力顯微鏡(AFM)系統(tǒng) 原子力顯微鏡分析系統(tǒng)
波蘭 PREVAC Tribometers 摩擦計
波蘭 PREVAC TPD/TDS system 測量超薄膜吸附/解吸的獨立系統(tǒng)
波蘭 PREVAC Beam flux monitor 電子束流監(jiān)測器
波蘭 PREVAC Quartz balance QO 40A1 石英天平 QO 40A1
波蘭 PREVAC Magnetron source 3-inch targets 磁控管源3英寸靶
波蘭 PREVAC Magnetron source 2-inch targets 磁控管源 2英寸靶
波蘭 PREVAC Electron beam evaporator EBV 40A1 電子束蒸發(fā)器 電子束蒸發(fā)源 EBV 40A1
波蘭 PREVAC Effusion cell EF 40C1 蒸發(fā)源EF 40C1
波蘭 PREVAC Double filament effusion cell EF 40C1DF 雙燈絲蒸發(fā)源EF 40C1DF
波蘭 PREVAC Low temperature effusion cell EF 40LT1 低溫蒸發(fā)源 EF 40LT1
波蘭 PREVAC Hemispherical energy analyser EA15 半球能量分析儀EA15
波蘭 PREVAC Hemispherical energy analyser EA15-HP5 半球能量分析儀EA15-HP5
波蘭 PREVAC Hemispherical energy analyser EA15-HP50 半球能量分析儀EA15-HP50
波蘭 PREVAC X-ray source with monochromator RMC50 帶單色儀X射線源
波蘭 PREVAC X-ray source RS 40B1 X射線源
波蘭 PREVAC UV source with monochromator 帶單色儀的紫外光源
波蘭 PREVAC UV source UVS 40A2 紫外線源
波蘭PREVAC Ion source IS 40E1 離子源
波蘭PREVAC Ion source IS 40C1
波蘭PREVAC Ion source IS 40F1 離子源
波蘭PREVAC Flood source FS 40A1 大束流離子源
波蘭PREVAC 離子源 IS 40C1 離子槍 高離子束電流 用于樣品表面清潔 具有高斯光束輪廓
PREVAC 熱解吸光譜儀 TDS 40A1 升溫解吸 TPD
PREVAC 半球能量分析儀 EA15 高分辨率PES測量
波蘭 PREVAC, 硬件,自動化與控制,PLC/HMI 控制
波蘭 PREVAC, 硬件,自動化與控制,PLC/HMI 控制
波蘭 PREVAC, 傳輸系統(tǒng),線性傳輸,設(shè)計用于在 UHV 條件下在腔室之間運輸樣品架/樣品。
波蘭 PREVAC, 傳輸系統(tǒng),運輸箱,用于在超高真空條件下在不同 UHV 系統(tǒng)之間運輸樣品
波蘭 PREVAC, 傳輸系統(tǒng),徑向分配系統(tǒng),用于在與其相連的多個分析,沉積或制備室之間轉(zhuǎn)移樣品
波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng) ,PLD 系統(tǒng),標準 PLD 系統(tǒng)
波蘭 PREVAC,分析系統(tǒng),FTIR 光譜系統(tǒng),專為紅外光譜研究而設(shè)計
波蘭 PREVAC, 分析系統(tǒng),光電子能譜系統(tǒng),標準 PES 系統(tǒng)
波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng), 磁控濺射系統(tǒng), 標準 MS 系統(tǒng)
波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng), 磁控濺射系統(tǒng) 032 PRIMS ,basic MS 系統(tǒng)
波蘭 PREVAC, 儀器,分析儀器 ,帶光柵 RMC50 的 X 射線源
波蘭 PREVAC, 儀器,分析儀器 ,半球形能量分析儀 EA15
波蘭 PREVAC, 儀器,分析儀器 ,紫外線光源 UVS 40A2,各種放電氣體運行的高強度光子源
波蘭 PREVAC, 儀器,分析儀器 ,電子源 ES 40C1,具有小光斑輪廓的可掃描電子源
波蘭 PREVAC,電子, 用于沉積的電子元件,磁控管電源 M600DC-PS,驅(qū)動多達 3 個磁控管源
波蘭 PREVAC,電子, 用于沉積的電子元件,沉積過程控制器 DPC10
波蘭 PREVAC,電子, 分析用電子,樣品加熱電源 HEAT3-PS,雙模式加熱（電阻和電子轟擊）
波蘭 PREVAC,電子, 分析用電子,離子源電源 IS40-PS,高穩(wěn)定性和低噪音電源
波蘭 PREVAC,電子 控制和測量,功率控制單元 PCU16,用于控制 UHV 真空系統(tǒng)
波蘭 PREVAC,電子 控制和測量,厚度監(jiān)測控制器 TMC13,沉積電子
波蘭 PREVAC,電子 控制和測量,沉積過程控制器 DPC10,用于沉積過程控制的新型電子單元
波蘭 PREVAC,電子 控制和測量,離子多壓力表控制器 MG15
PREVAC FTIR光譜系統(tǒng) 紅外光譜儀 MOKE系統(tǒng) 超薄磁膜 TPD/TDS系統(tǒng) 超薄膜吸附/解吸 AFM/STM系統(tǒng) 原子力顯微鏡 摩擦計
PREVAC 光電子能譜系統(tǒng) 納米材料分析系統(tǒng) PES系統(tǒng) HPPES 同步加速器 光束分析平臺 ARPES、UPS、XAS 或 LEED
PREVAC 沉積系統(tǒng) 旋涂機 金屬薄膜、聚合物涂層、有機薄膜 真空覆膜
PREVAC 脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 表面科學(xué)和材料研究 ARPES、IBS、磁控濺射和 MBE 納米結(jié)構(gòu)層
PREVAC MBE系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 分子束外延 離子源 單晶的薄膜沉積 原子層沉積 真空鍍膜
PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) PRIMS 真空鍍膜 電子束蒸發(fā) 反應(yīng)濺射
PREVAC 傅里葉變換紅外光譜系統(tǒng)，PREVAC FTIR光譜系統(tǒng)
PREVAC 高壓光電子能譜系統(tǒng)，用于在超高真空（UHV）或環(huán)境壓力條件下對納米材料進行分析，壓力范圍2×10^-9 mbar至50 mbar
波蘭Prevac 光電子能譜儀 PES system, 適用于超高真空（UHV）環(huán)境中光電子能譜實驗的分析系統(tǒng)，配有可控樣品溫度。
波蘭Prevac 真空光源VCH-10 , 真空用光源，用于照明超真空系統(tǒng)中的樣品區(qū)域和運動區(qū)域
波蘭Prevac HEAT3-PS樣品加熱電源
波蘭PREVAC MG15超高真空離子規(guī)控制器
PREVAC 半球能量分析儀 EA15 PES測量
PREVAC 熱解吸光譜儀 TDS 40A1 升溫解吸 TPD
電子源 ES 40C1 用于 掃描應(yīng)用 AES 成像 EELS 和電子脈沖或解吸實驗 （ESD）
洪水源 FS 40A1 電子槍 電子驅(qū)動源 半導(dǎo)體電荷中和 XPS AES SIMS
離子源 IS 40C1 離子槍 高離子束電流 用于樣品表面清潔 具有高斯光束輪廓
離子源 IS 40E1 離子槍 用于XPS，ISS和SIMS中的深度剖析 樣品表面清潔
紫外線源 UVS 40A2 高強度光子源 紫外光電子能譜 UPS
帶單色器的紫外光源 用于納米結(jié)構(gòu)研究 高功率單色紫外光源 布拉格衍射 紫外線輻射
X 射線源 RS 40B1 雙陽極鋁/鎂源 XPS
帶單色器 RMC50 的 X 射線源 根據(jù)布拉格X射線衍射定律 高光子強度 小光斑工作模式
PREVAC 半球形能量分析儀EA15-HP50 高分辨率 PES 測量
半球形能量分析儀EA15-HP5 高分辨率 PES 測量 MCP-CCD 探測器 HiPace 300 渦輪分子泵
低溫積液池 EF 40LT1 低溫滲液池 低溫沉積池
雙絲積液池 EF 40C1DF 雙絲沉積池 適用于任何 MBE 系統(tǒng) 無鉬結(jié)構(gòu)
積液池 EF 40C1 滲液池 克努森池 無鉬結(jié)構(gòu) 用于 MBE 系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)器 EBV 40A1 超純亞單層和多層 MBE 薄膜生長
用于2 英寸目標的磁控管源 63CF 濺射工藝 M600DC-PS 電源
用于3英寸目標的磁控管源 160 ISO-K 濺射工藝 磁控濺射源
石英天平 QO 40A1 測量涂層厚度 蒸發(fā)膜和濺射鍍膜
光束通量監(jiān)測器 MBE 應(yīng)用 光束等效壓力 BEP
光束通量監(jiān)測器 MBE 應(yīng)用 光束等效壓力 BEP
石英天平 QO 40A1 測量涂層厚度 蒸發(fā)膜和濺射鍍膜
用于3英寸目標的磁控管源 160 ISO-K 濺射工藝 磁控濺射源
用于2 英寸目標的磁控管源 63CF 濺射工藝 M600DC-PS 電源
電子束蒸發(fā)器 EBV 40A1 超純亞單層和多層 MBE 薄膜生長
積液池 EF 40C1 滲液池 克努森池 無鉬結(jié)構(gòu) 用于 MBE 系統(tǒng)
雙絲積液池 EF 40C1DF 雙絲沉積池 適用于任何 MBE 系統(tǒng) 無鉬結(jié)構(gòu)
低溫積液池 EF 40LT1 低溫滲液池 低溫沉積池
半球形能量分析儀EA15-HP5 高分辨率 PES 測量 MCP-CCD 探測器 HiPace 300 渦輪分子泵
PREVAC 半球形能量分析儀EA15-HP50 高分辨率 PES 測量
帶單色器 RMC50 的 X 射線源 根據(jù)布拉格X射線衍射定律 高光子強度 小光斑工作模式
X 射線源 RS 40B1 雙陽極鋁/鎂源 XPS
帶單色器的紫外光源 用于納米結(jié)構(gòu)研究 高功率單色紫外光源 布拉格衍射 紫外線輻射
紫外線源 UVS 40A2 高強度光子源 紫外光電子能譜 UPS
離子源 IS 40E1 離子槍 用于XPS，ISS和SIMS中的深度剖析 樣品表面清潔
離子源 IS 40C1 離子槍 高離子束電流 用于樣品表面清潔 具有高斯光束輪廓
洪水源 FS 40A1 電子槍 電子驅(qū)動源 半導(dǎo)體電荷中和 XPS AES SIMS
電子源 ES 40C1 用于 掃描應(yīng)用 AES 成像 EELS 和電子脈沖或解吸實驗 （ESD）
PREVAC 熱解吸光譜儀 TDS 40A1 升溫解吸 TPD
PREVAC 半球能量分析儀 EA15 PES測量
波蘭 PREVAC MBE分子束外延設(shè)備 Advanced MBE systems，適用于單晶的薄膜沉積，具有磁性能、形貌、晶體學(xué)、薄膜厚度等原位表征功能
波蘭 PREVAC MBE分子束外延設(shè)備 Standard MBE systems
波蘭 PREVAC 分子束外延設(shè)備 Mini MBE systems，MBE分子束外延設(shè)備
波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Semi-industrial MS systems
波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Advanced MS systems
波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Standard MS systems
波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) 032 PRIMS basic MS system，用于可重復(fù)的薄膜層應(yīng)用
PREVAC X射線源 X-ray Source RS 40B1
PREVAC 紫外源UV Source UVS 40A2
PREVAC 離子源 IS 40E1 離子槍
PREVAC 磁控管源 MS2 100 ISO-K 濺射鍍膜
PREVAC 磁控管源 MS2 63C1 濺射鍍膜
PREVAC 離子源 Ion Source IS 40C1 緊湊型離子源
PREVAC 離子源 IS 40E1 離子槍
PREVAC 離子源 IS 40E1 離子槍
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