高級(jí) PLD 系統(tǒng)

• 根據(jù)您的所有需求打造的多腔室、多技術(shù) PLD 研究平臺(tái)
• 適用于異磁膜、陶瓷氧化物、高溫超導(dǎo)材料、金屬多層膜等的生長
• 垂直或水平?PLD 工藝幾何形狀
• 帶有激光束驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的準(zhǔn)分子或?YAG?激光器
• 1-4 軸，電動(dòng)或手動(dòng)，帶接收站的基板機(jī)械手，能夠達(dá)到高達(dá) 1400°C 的高溫（帶有由固體 SiC 制成的穩(wěn)定、長壽命的加熱器元件）
• 不同的基板支架尺寸：從 10×10 mm 到 8 英寸
• 帶有原位目標(biāo)交換系統(tǒng)的六位目標(biāo)機(jī)械手
• 目標(biāo)支架尺寸：1 或 2 英寸
• 全自動(dòng)或手動(dòng)靶材和基物轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
  
• 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面
• 極限壓力從?1×10?起^-8至 5×10^-11?mbar 的 mbar 取決于泵送系統(tǒng)?
• 主腔體提供不同標(biāo)準(zhǔn)類型和尺寸
• 泵送系統(tǒng)（基于前級(jí)泵、TMP、離子泵和TSP）
• 帶設(shè)備的真空計(jì)
• 樣品制備解決方案系列，例如手套箱、樣品切割器或?qū)闃悠芳訜帷?a href="http://www.guanyatd.com/prevac/tag/%e5%86%b7%e5%8d%b4/" title="View all posts in 冷卻" target="_blank">冷卻、清潔等而設(shè)計(jì)的設(shè)備齊全的制備室。
• 基于線性傳輸、徑向分配室或傳輸隧道的傳輸系統(tǒng)
• Viewports – 帶百葉窗的觀察窗
• 烘烤前帶有集成吹掃管的水冷系統(tǒng)
• Bakeout 系統(tǒng)?
• 模塊化框架，可進(jìn)行擴(kuò)展
• Synthesium 軟件和?HMI 面板用于完全控制沉積過程和設(shè)備
• 全自動(dòng)過程驅(qū)動(dòng)配方，將高度靈活的激光光學(xué)元件和工作壓力范圍相結(jié)合
• 用于電子單元的 19 英寸機(jī)柜

描述

全自動(dòng)過程驅(qū)動(dòng)配方結(jié)合了高度靈活的激光光學(xué)元件和工作壓力范圍，使系統(tǒng)處于獨(dú)特的位置，以支持前沿研究。

自動(dòng)化系統(tǒng)能夠毫不費(fèi)力地將目標(biāo)物和基板從負(fù)載鎖轉(zhuǎn)移到 PLD 機(jī)械手站。在完全中央 PC 控制下，它提供對樣品和目標(biāo)位置、傳輸和作運(yùn)動(dòng)以及相關(guān)聯(lián)鎖閥的位置狀態(tài)的完整遠(yuǎn)程監(jiān)測和控制。所有樣品信息（包括樣品識(shí)別號(hào)、UHV 系統(tǒng)中的歷史記錄等）都存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫中，以供中央控制系統(tǒng)檢索和審查。

為了實(shí)現(xiàn)高效作，創(chuàng)新的傳輸解決方案具有一個(gè)帶有原位交換系統(tǒng)的六位目標(biāo)縱器，并允許使用相同的腔室端口轉(zhuǎn)移目標(biāo)和基材支架。

工藝腔室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來的設(shè)備，包括：

• 激光
• 具有一定溫度范圍的基板機(jī)械手，
• 目標(biāo)縱器 /
• 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面，
• 泵送系統(tǒng)（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵），
• 帶設(shè)備的真空計(jì)，
• 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口，例如來自負(fù)載鎖、徑向分配室、傳輸隧道或運(yùn)輸箱，
• 帶 Z 機(jī)械手的石英天平，
• RHEED/TorrRHEED 與設(shè)備，
• 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
• 額外的氣體劑量，例如。對于反應(yīng)沉積過程，
• viewports – 帶百葉窗的觀察窗，
• 殘余氣體分析儀 /
• 光束通量監(jiān)測器 /
• 診斷設(shè)備的加熱視口。

該系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺(tái)進(jìn)行組合和集成。?最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。

泵送系統(tǒng)與工藝室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可達(dá)到 1×10 范圍內(nèi)的極限壓力^-8– 5×10^-11mbar，具體取決于泵的配置。泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級(jí)真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。

Synthesium 過程控制軟件允許各種類型和制造商的來源進(jìn)行集成和完美合作，并實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)生長控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于 Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。

該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個(gè)包含的研究設(shè)備。

選項(xiàng)

• RHEED/TorrRHEED?帶設(shè)備
• 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近圖層或掩模
• 激光功率傳感器
• 額外的儲(chǔ)存室
• 內(nèi)部防護(hù)罩
• 防止交叉污染的防護(hù)罩
• 真空手提箱（運(yùn)輸箱），在負(fù)載鎖室中帶端口
• 額外的氣體計(jì)量，例如。用于反應(yīng)沉積工藝
• 殘余氣體分析儀
• 光束通量監(jiān)測器
• 診斷設(shè)備的加熱視窗
• 高溫計(jì)
• 橢圓儀
• 通過PLC單元和Synthesium軟件完全控制沉積過程和設(shè)備?