標(biāo)準(zhǔn) PLD 系統(tǒng)
PREVAC 標(biāo)準(zhǔn) PLD 系統(tǒng)包括一個(gè)沉積工藝室和一個(gè)負(fù)載鎖定室，用于輕松快速地加載基板。
脈沖激光沉積 （PLD） 獨(dú)立系統(tǒng)適用于異磁膜、陶瓷氧化物、高溫超導(dǎo)材料、金屬多層膜等的生長。
特征
- 滿足 PLD 生長過程領(lǐng)域大多數(shù)研究需求的多功能解決方案
- 適用于異磁膜、陶瓷氧化物、高溫超導(dǎo)材料、金屬多層膜等
的生長 - 垂直PLD 工藝幾何形狀
- 帶有激光束驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的準(zhǔn)分子或?YAG?激光器
- 1-4 軸，電動(dòng)或手動(dòng)，帶接收站的基板機(jī)械手，能夠達(dá)到高達(dá) 1400°C 的高溫（帶有由固體 SiC 制成的穩(wěn)定、長壽命的加熱器元件）
- 不同的基板支架尺寸：從 10×10 mm 到 2 英寸
- 帶有原位目標(biāo)交換系統(tǒng)的六位目標(biāo)機(jī)械手
- 目標(biāo)支架尺寸：1 或 2 英寸
- 全自動(dòng)或手動(dòng)靶材和基物轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
- 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面
- 極限壓力從?1×10?起-8至 5×10-11?mbar 的 mbar 取決于泵送系統(tǒng)?
- 工藝室? 490 mm，帶附加端口
- 泵送系統(tǒng)（基于前級(jí)泵、TMP、離子泵和TSP）
- 帶設(shè)備的真空計(jì)
- 用于沉積速率測(cè)量和厚度監(jiān)測(cè)器的石英天平，帶有 Z 機(jī)械手，用于測(cè)量焦點(diǎn)的速率
- 用于樣品架和目標(biāo)的?Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng)，從負(fù)載鎖到工藝室
- Viewports – 帶百葉窗的觀察窗
- 烘烤前帶有集成吹掃管的水冷系統(tǒng)
- Bakeout 系統(tǒng)?
- 系統(tǒng)的可調(diào)節(jié)剛性主機(jī)架?
- 帶電子單元的 19 英寸機(jī)柜
描述
工藝室包含 6 個(gè)靶材和一些用于在襯底上沉積的材料。該階段適用于直徑最大2英寸的樣品，具有冷卻/加熱和旋轉(zhuǎn)選項(xiàng)。自動(dòng)或手動(dòng) PLD 系統(tǒng)能夠毫不費(fèi)力地將目標(biāo)和基板從負(fù)載鎖轉(zhuǎn)移到 PLD 機(jī)械手站。?
工藝腔室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來的設(shè)備，包括：?
- 激光
- 具有一定溫度范圍的基板機(jī)械手，
- 目標(biāo)縱器 /
- 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面，
- 泵送系統(tǒng)（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵），
- 帶設(shè)備的真空計(jì)，
- 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口，例如來自負(fù)載鎖、徑向分配室、傳輸隧道或運(yùn)輸箱，
- 帶 Z 機(jī)械手的石英天平，
- RHEED/TorrRHEED 與設(shè)備，
- 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
- 額外的氣體劑量，例如。對(duì)于反應(yīng)沉積過程，
- viewports – 帶百葉窗的觀察窗，
- 殘余氣體分析儀 /
- 光束通量監(jiān)測(cè)器 /
- 診斷設(shè)備的加熱視口。
最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。?
如果需要，系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺(tái)進(jìn)行組合和集成。?
泵送系統(tǒng)與工藝室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可達(dá)到 1×10 范圍內(nèi)的極限壓力-8– 5×10-11mbar，具體取決于泵的配置。泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級(jí)真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。?
Synthesium?過程控制軟件允許各種類型和制造商的來源進(jìn)行集成和完美合作，并實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)生長控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于 Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。
該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個(gè)包含的研究設(shè)備。
選項(xiàng)
- RHEED/TorrRHEED?帶設(shè)備
- 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近圖層或掩模
- 激光功率傳感器
- 額外的儲(chǔ)存室
- 內(nèi)部防護(hù)罩
- 防止交叉污染的防護(hù)罩
- 真空手提箱（運(yùn)輸箱），在負(fù)載鎖室中帶端口
- 額外的氣體計(jì)量，例如。用于反應(yīng)沉積工藝
- 殘余氣體分析儀
- 光束通量監(jiān)測(cè)器
- 診斷設(shè)備的加熱視窗
- 高溫計(jì)
- 橢圓儀
- 通過PLC單元和Synthesium軟件完全控制沉積過程和設(shè)備
