這種多功能 UHV 系統(tǒng)專為對材料表面進行精確和多樣的分析而設(shè)計。

規(guī)格

• 該系統(tǒng)由固定真空室的主框架組成：分析室、制備室、負載鎖定室和線性轉(zhuǎn)移。分析室中的基礎(chǔ)壓力 < 5*10?^-11?mbar。
• Multitechnique 分析室集成了不同的表面分析方法，如 ARPES、UPS 和 LEED。由 mu-metal 制造，設(shè)計用于比 0.5 meV 更好的能量分辨率