半工業(yè) MS 系統(tǒng)
半生產(chǎn)型 HV 系統(tǒng)，用于快速和可重復(fù)的薄層應(yīng)用過(guò)程，并提供最大程度的自動(dòng)化作支持。
工藝腔室設(shè)計(jì)允許結(jié)合多種沉積技術(shù)，其中包括：DC/RF 磁控濺射、反應(yīng)濺射和使用電子束的蒸發(fā)。電子柜配有配備大型觸摸屏和用戶(hù)友好型軟件的集成計(jì)算機(jī)，將使基材的涂層過(guò)程順利而輕松。
特征
- 用于半生產(chǎn)涂層的自動(dòng)化 HV 裝置
- 非常適合沉積金屬和介電薄膜
- 工藝腔室標(biāo)準(zhǔn)尺寸：? 570 mm
- 源配置：2 x 3“ 磁控管和?6 口袋電子束蒸發(fā)器（可提供其他配置）
- 極限壓力范圍< 3×10-7毫巴
- 2 軸機(jī)械手，帶有穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的加熱器元件，可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 300 °C 的高溫
- 各種基板支架尺寸（從 10×10 mm 到 6 英寸，可根據(jù)要求提供其他尺寸）和形狀
- 磁控管源的濺射上和濺射下裝置可用
- 在?DC、RF?和脈沖 DC 模式下運(yùn)行
- 通過(guò)質(zhì)量流量控制實(shí)現(xiàn)?Ar 氣體自動(dòng)加注
- 可以使用原位表征工具，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器 （PEM）、橢偏儀、反射儀、石英天平或高溫計(jì)溫度測(cè)量系統(tǒng)
- 通過(guò)單個(gè)電源和開(kāi)關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供多個(gè)源，或由多個(gè)電源提供用于共沉積處理
- 前門(mén)通道可快速輕松地裝載基板
- 19 英寸機(jī)柜，配備先進(jìn)的電子單元和先進(jìn)的人機(jī)界面 （HMI） 設(shè)備，用于硬件輕松控制和監(jiān)控過(guò)程
- 帶輪子的剛性主機(jī)架便于放置系統(tǒng)
描述
為方便用戶(hù)，主室可通過(guò)前門(mén)進(jìn)入，因此可以輕松更改磁控管靶材、基板或維修/清潔腔室內(nèi)部。主腔室由不銹鋼制成，可承受 <3*10 的極限壓力范圍-7mbar 的它標(biāo)配兩個(gè) 3 英寸磁控管源（DC、RF）和一個(gè) 6 腔電子束蒸發(fā)器?？尚D(zhuǎn)的機(jī)械手能夠作最大 6 英寸的樣品架。
該軟件主要針對(duì)：
- 對(duì)沉積系統(tǒng)的完全控制，
- 自動(dòng)、手動(dòng)和可編程定時(shí)器，可實(shí)現(xiàn)有效的快門(mén)控制，
- 圖形化系統(tǒng)狀態(tài)表示，
- 進(jìn)程創(chuàng)建者和控制器，
- 快速、實(shí)時(shí)的數(shù)據(jù)預(yù)覽，
- 實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集（與 LIMS 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)集成）。
該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個(gè)包含的研究設(shè)備。
選項(xiàng)
提供用于簡(jiǎn)化濺射工藝的輔助設(shè)備范圍：?
- 高溫計(jì)?– 數(shù)字高溫計(jì)用于大范圍的非接觸式點(diǎn)狀溫度測(cè)量，
- 橢偏儀?– 分析反射光以確定電介質(zhì)、半導(dǎo)體和金屬薄膜的厚度和折射率。它使用以低入射角從膠片反射的光，
- 反射計(jì)?– 非侵入式工具，用于通過(guò)光譜反射系統(tǒng)快速、實(shí)時(shí)測(cè)量沉積速率、薄膜厚度、層均勻性、光學(xué)常數(shù)，
- 等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器 （PEM）?– 用于實(shí)時(shí)等離子體監(jiān)測(cè)而不影響其的光學(xué)發(fā)射光譜技術(shù)，
- 水冷護(hù)罩?– 作為選項(xiàng)，當(dāng)需要降低組件/工藝溫度時(shí)，腔室可以配備 H2O 護(hù)罩，
- 屏蔽保護(hù)，防止交叉污染，
- 電動(dòng)快門(mén)（跟隨基板）用于厚度梯度的濺射沉積，
- 額外的氣體計(jì)量，例如用于反應(yīng)濺射工藝，
- 用于診斷的加熱視口，
- 手套箱。
應(yīng)用
| 應(yīng)用 | 例子 |
| 單層和多層導(dǎo)體薄膜（用于微電子和半導(dǎo)體器件）? | 鋁、鉬、鉬/金、鉭、鉭/金? |
| 用于半導(dǎo)體金屬化的阻擋層? | 鈦、W-鈦? |
| 磁性薄膜? | 鐵、鈷、鎳、鐵鋁硅、鈷鈮鈮鋯鋅、鈷鉻、鐵鎳鉻、鐵硅、鈷鎳鉻、鈷鎳硅? |
| 光學(xué)鍍膜 – 金屬（反射）? | 鉻、鋁、銀? |
| 光學(xué)鍍膜 – 電介質(zhì)? | 氧化鎂、鈦2、ZrO2? |
| 光掩模? | 鉻、鉬、鎢? |
| 透明的氣體/蒸汽滲透屏障? | 鋁2O3? |
| 透明電導(dǎo)體? | 慣置物2、 SnO2，In-SN-O （ITO）? |
