離子源 IS 40C1
緊湊、易于使用的萃取器類型，用于樣品表面清潔。源產(chǎn)生 >70 μA/cm 的離子電流2（氬氣）和高斯光束輪廓。源插入長度可根據(jù)具體要求進(jìn)行調(diào)整（在 62.5 mm – 384.5 mm 之間，可根據(jù)要求提供其他長度）。
技術(shù)數(shù)據(jù)
| 安裝法蘭 | DN 40CF （不可旋轉(zhuǎn)） |
| 能量范圍 | 0.12 keV – 5 keV |
| 電流密度 | > 120 μA/cm2（距離 30 mm） |
| 盾 | 銅、不銹鋼（用于反應(yīng)氣體） |
| 陰極類型 | 氧化釔涂層銥絲 |
| 插入長度 | 最小 62.5 mm，其他可根據(jù)要求提供 外徑：最大 37 mm |
| FWHM （英語） | 取決于離子能量和工作距離 （例如，距離 30 mm 時為 3 mm） |
| 典型工作距離 | 30 – 250 毫米 |
| 烘烤溫度 | 最高 250°C |
| 工作壓力 | 10-5– 10-6毫巴 |
特征
- 使用惰性氣體 （Ar） 和反應(yīng)氣體 （O作2、 H2，使用壽命縮短的碳?xì)浠衔铮?/span>
- 高離子束流
- 使用壽命長
- 高穩(wěn)定性
選項
- 氣體加注系統(tǒng)
- 定制插入長度
- 線性偏移
