描述

定制的多室 UHV 系統(tǒng)(EMIL)，用于在硅薄膜沉積集群、SISSY@EMIL 終端站和其他分析工具、沿樣品傳輸系統(tǒng)和徑向分布室位于的負載鎖定和存儲室之間傳輸。硅薄膜沉積簇通過處理器傳輸室、樣品分離室、模塊化超高真空樣品傳輸系統(tǒng)和徑向分布室連接到 SISSY@EMIL 終端站。

規(guī)格

EMIL 多室系統(tǒng)專注于材料研究，以實現(xiàn)未來可持續(xù)、經(jīng)濟和安全的能源供應。EMIL 致力于對用于能量轉換、能量存儲和能源效率的材料和設備進行最先進的合成以及原位和操作中 X 射線分析。EMIL 的工作將涵蓋從基礎和應用材料科學到技術和原型開發(fā)到工業(yè)研究的范圍。EMIL 的研究將涵蓋廣泛的能源相關主題，包括光伏 (PV)、太陽能燃料、生物質到液體燃料、熱電材料、電池電極材料、儲氫、化學工業(yè)的節(jié)能催化劑等過程隨著氨的生產，隨著外部用戶和工業(yè)將在 EMIL 進行研究，新領域將得到發(fā)展。

EMIL 將用于各種材料類別的多種合成和沉積技術與基于同步加速器的復雜分析相結合，該分析可以在納米尺度上以橫向和深度分辨率探測薄層和界面特性。有前景的方法是在一個專用真空系統(tǒng)中將不同的基于同步加速器的 X 射線表征技術與相關的沉積和后處理能力相結合。

EMIL 的設計使其可以為多達三個實驗終端站提供服務，每個終端站都可以同時訪問 80 eV – 10 keV 非常寬的能量范圍內的軟和硬 X 射線，并且在一個集成的超- 高真空系統(tǒng)。此外，粉紅色光束終端站計劃為色散 X 射線發(fā)射光譜 (XES) 啟用 2-10 keV 光子的高通量源。

• 由RAPID SE操作的全自動傳輸系統(tǒng)
• 17個室，其中4個徑向分布室
• 為 10x10mm 至 6 英寸的樣品準備
• 溫度范圍廣 – 從 LN?2級到 1450?o?C
• 傳輸過程中的基本壓力 10?-10?mbar
• 可存放 65 個樣品架