專用于光電子能譜和 X 射線吸收光譜（總電子產(chǎn)率和總熒光產(chǎn)率技術(shù)）的實(shí)驗(yàn)站。
規(guī)格：
- 該系統(tǒng)由分析室、制備室、裝載鎖、儲(chǔ)存室和徑向分配室組成。
- 由 mu-metal 制成的分析室配備基于硅光電二極管的全熒光檢測(cè)器、5 軸低溫機(jī)械手、兩陽(yáng)極 X 射線源、帶單色器的紫外線源、電子泛光源和氣體加藥系統(tǒng)。分析室中的基礎(chǔ)壓力≤ 1*10?-10?mbar。
- 帶有 LHe 冷卻（開放式循環(huán)）的 5 軸分析機(jī)械手，用于旗幟式樣品架，
- 用于樣品應(yīng)用和表征的制備室，配備 LEED 光譜儀和用于 PTS 支架的4 軸 LN?2操縱器、電子束蒸發(fā)器 EBV 40A1、Efusion Cell EF 40C1 和離子源 IS 40E1。
- 帶有用于 PTS 樣品架的4 軸 LN?2操縱器的附加制備室，準(zhǔn)備用于處理氣體。
- 帶分離加載鎖定室的樣品加載系統(tǒng)
- 用于 6 個(gè) PTS 樣品架的儲(chǔ)存室。
- 帶設(shè)備的切割室
