描述

定制的多室 UHV 系統(tǒng)，用于原子和電子表面結(jié)構(gòu)分析、表面復(fù)雜外延金屬或分子膜的研究和制備以及多層膜樣品中界面的化學(xué)分析。

規(guī)格

圍繞中央徑向分布室設(shè)計(jì)的多室系統(tǒng)，帶有連接的分析室和輔助室，可滿(mǎn)足真正 UHV 條件（壓力低于 10?^-10毫巴）下的樣品傳輸需求。分析室中的基礎(chǔ)壓力 < 5*10?^-11?mbar。中央徑向分配室通過(guò)重定向室連接到具有相同設(shè)計(jì)的第二分配室。第二個(gè)系統(tǒng)提供與商用高性能 XPS 系統(tǒng)的連接，以及通往第二個(gè)制備室、裝載鎖和樣品儲(chǔ)存室的通道。

• 集成多種表面分析方法的多技術(shù)分析室；X射線(xiàn)光電子能譜（XPS）、單色紫外光電子能譜（UPS）、離子散射能譜（ISS）和俄歇電子能譜（AES）。樣品定位是通過(guò)一個(gè)穩(wěn)定、高精度的 5 軸機(jī)械手和兩個(gè)電動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)的。樣品接收站配備了 LN?₂低溫恒溫器，允許溫度在 -180°C 至 1000°C 的范圍內(nèi)變化。mu-metal 室配有半球分析儀、X 射線(xiàn)源、帶單色器的紫外線(xiàn)源、電子源和泛光槍。靈活的設(shè)計(jì)允許根據(jù)未來(lái)的科學(xué)需求輕松修改。
• 5 軸機(jī)械手和專(zhuān)用軟件允許以?xún)?yōu)于 0.1 度的角分辨率和可重復(fù)性測(cè)量 X 射線(xiàn)光電子衍射數(shù)據(jù) (XPD)。
• 紅外光譜室 (FT-IR) 與商用紅外光譜儀，也可用作獨(dú)立儀器。樣品可以在測(cè)量過(guò)程中加熱和冷卻，腔室配備有氣體計(jì)量和電子束蒸發(fā)器，用于原位樣品制備。
• 三級(jí)制備室，配備 LEED、離子源、電子束蒸發(fā)器、Knudsen 池和可用于未來(lái)擴(kuò)展的眾多端口。
• 用于 6 個(gè)樣品架的儲(chǔ)存室。
• 裝載鎖定室配備可拆卸手套箱，用于簡(jiǎn)單的樣品裝載或在減少氧氣和水氣氛下的樣品制備。