基于橢球石英晶體，根據(jù)X射線衍射的布拉格定律進(jìn)行操作。水晶鏡安裝在專門設(shè)計(jì)的獨(dú)立收縮、俯仰、滾動機(jī)構(gòu)上，可精確調(diào)整工作位置，并通過PID調(diào)節(jié)器控制兩個(gè)鹵素加熱器。
直徑為500mm的羅蘭圓單色儀具有高X射線能量分辨率，設(shè)計(jì)緊湊，帶有差分泵浦端口，可以安裝可選的聚合物鍍鋁窗口以防止濺射。
基于重新設(shè)計(jì)的雙陽極源的X射線源已安裝在三度運(yùn)動高精度機(jī)械手上。光源有兩種工作模式——高達(dá)600W的高功率和用于高空間/能量分辨率測量的小光斑。
高壓版本可供選擇：
RMC50 HP5，工作壓力范圍可達(dá)5mbar
RMC50 HP50，工作壓力范圍可達(dá)50mbar
特性
用一個(gè)單晶單色化兩種陽極類型（Al/Ag）輻射
高光子強(qiáng)度，線寬<0.2 eV
卓越的能量分辨率
衛(wèi)星和幽靈線被消除
減少背景
減少樣本失真
晶體溫度穩(wěn)定性
小光斑工作模式
技術(shù)參數(shù)
| Mounting flange | DN 100 CF |
| Crystal area | 200 mm x 100 mm |
| Rowland circle diameter | 500 mm |
| Chamber diameter | 310 mm |
| Chamber port length | 220 mm |
| X-ray source anodes | dual anode Al/Ag (standard) |
| Modes | normal (non-focusing): 1 mm x 4 mm small spot (focusing): 1 mm x 2 mm |
| Voltage | up to?15 kV |
| Power | Al: 200 W?(focusing), 450 W?(non-focusing) Ag: 300 W (focusing), 600 W (non-focusing) |
| Manipulator X/Y/Z range | ± 6.5 mm / ± 6.5 mm / 25 mm |
| Differential pumping | yes |
| Crystal heating | No |
| Shutter | option |
| Bakeout temperature | up to?150 °C |
| Weight (approx.) | 65 kg |
| Working pressure | UHV -> 5×10-6?mbar HP5: UHV – 5 mbar HP5: UHV – 50 mbar |
