HEXAR 是一款寬束離子源，專為真空環(huán)境下的表面處理而設(shè)計。

HEXAR 是一種可擴(kuò)展的概念，能夠制造出適用于處理各種表面尺寸的離子源。

典型應(yīng)用包括離子束蝕刻、表面清潔、離子輔助沉積和離子束濺射沉積。

原理

HEXAR 由微型微波腔的六邊形排列組成，每個微型微波腔在超低射頻功率（每個腔在 2.45GHz 頻率下功率為幾瓦）下進(jìn)行電子回旋共振（ECR）放電。這種方法之所以成功，是因為 ECR 等離子體具有可靠性和穩(wěn)定性，而且該源沒有耗材。此外，它能夠以標(biāo)準(zhǔn)寬束源無法實現(xiàn)的方式控制束流的電流密度分布。通過氣流、光學(xué)元件和施加的射頻功率的組合，電流密度分布的形狀和幅度都可以改變。

可擴(kuò)展技術(shù)

HEXAR 基于一個可擴(kuò)展原則：可處理的表面積會隨著所使用的腔室數(shù)量增加而增大。如果您對更大表面的離子處理感興趣，請聯(lián)系我們。您也可以查看我們的定制束流解決方案頁面，了解我們的多腔室方法所帶來的其他可能性。

非導(dǎo)電基底離子處理用中和器

可使用中和器來避免表面電荷積累。Polygon Physics 公司提供一款基于電子回旋共振（ECR）的電子源作為中和器，該中和器無需燈絲等耗材。此中和器采用與 HEXAR 相同的緊湊型 ECR 技術(shù)，由單個微波腔構(gòu)成，其功率足以完全抵消正離子電流。

應(yīng)用

不同的應(yīng)用需要不同的束流特性。HEXAR 寬束電子回旋共振源可以通過調(diào)整束流光學(xué)系統(tǒng)以及改變每個腔室所施加的射頻功率，來滿足不同的應(yīng)用需求。而且，在設(shè)計初期，還可以通過改變構(gòu)成離子源的腔室數(shù)量，針對特定的樣品尺寸進(jìn)行定制。典型的應(yīng)用包括：
?蝕刻
?清洗
?表面改性
?離子輔助沉積

?離子束濺射沉積

技術(shù)數(shù)據(jù)

源模塊配備 19 英寸機(jī)架式電子設(shè)備、SMA 和高壓電纜、電源線以及 USB 軟件。不包括源氣體、源冷卻系統(tǒng)（世偉洛克 6 毫米）和個人電腦。HEXAR 可根據(jù)您的特定需求定制。