軟件
該軟件的源程序配有一個(gè)用戶友好的控制與監(jiān)測(cè)界面，可讓您對(duì)光束進(jìn)行調(diào)校、記錄數(shù)據(jù)并運(yùn)行存儲(chǔ)的方案。此外，還提供 Labview 驅(qū)動(dòng)程序，以便將我們的軟件與其他系統(tǒng)集成。
高壓平臺(tái)兼容選項(xiàng)
如果您已經(jīng)配備了高壓平臺(tái)，我們的高壓平臺(tái)兼容版本可能更為合適。在此適配方案中，源端與安裝法蘭不再進(jìn)行電氣隔離。因此，源端與法蘭之間的距離可以縮短。
構(gòu)建你自己的多源系統(tǒng)
組裝一套屬于你自己的用于制備多組分薄膜的定制離子束沉積系統(tǒng)。通過在共焦幾何結(jié)構(gòu)中使用多個(gè)離子源，可以獲得均勻的薄膜。每個(gè)離子源濺射各自的靶材。靶材可以是從手工切割的金屬箔片到燒結(jié)顆粒等任何材料。
IE 槍在實(shí)際應(yīng)用中的案例（用戶應(yīng)用）：
?離子束濺射沉積非晶硅和氧化物薄膜，旨在獲得具有低光吸收和低機(jī)械損耗的涂層，以用于性能更優(yōu)的引力波探測(cè)器。薄膜的良好特性歸因于我們離子源的沉積特性和潔凈度。您可以在此處了解更多相關(guān)信息。
?IE 槍作為靜電加速器的電離源和注入器，用于研究多環(huán)芳烴分子（PAHs）的冷卻動(dòng)力學(xué)。多環(huán)芳烴被認(rèn)為是星際介質(zhì)中特征紅外發(fā)射帶的可能載體。對(duì)于此應(yīng)用，我們離子源能夠在不使氣體分子裂解的情況下使其電離（“軟電離”），這一能力激發(fā)了用戶對(duì)該離子源的興趣。
技術(shù)數(shù)據(jù)
源模塊配備 19 英寸電源機(jī)架、SMA 和高壓電纜、電源線以及 USB 軟件。不包括源氣體、源冷卻系統(tǒng)（世偉洛克 6 毫米管件）和個(gè)人電腦。離子注入槍可根據(jù)您的特定需求定制。如需了解相關(guān)可能性，請(qǐng)聯(lián)系我們，或查看我們關(guān)于定制束流解決方案的頁(yè)面。30kV 及以下型號(hào)的規(guī)格：
