2025年5月7日 舒哲鵬13975803053美國LK Technology,LK2000LK 2000LK2000 HREELS 儀器已在全球工業(yè)和學(xué)術(shù)實(shí)驗(yàn)室中得到廣泛使用。它已成功應(yīng)用于各種問題,包括金屬上的碳?xì)浠衔锘瘜W(xué)吸附(催化)、硅晶片清潔技術(shù)分析、表面等離子體、聚合物膜的表征、C60電影研究,以及無數(shù)其他的。3 meV (FWHM) 及以下的分辨率可旋轉(zhuǎn)和固定光學(xué)模型一體式雙磁屏蔽,實(shí)現(xiàn)簡單的“螺栓固定”安裝 LK2000 LK Technology 化合物化學(xué)吸附分析 硅晶片清潔 表面特征分析