美國(guó)LK Technology,NGI3000 系列離子源

產(chǎn)品中心-NGI3000-B

NGI3000

我們堅(jiān)固耐用、廣受歡迎的離子源設(shè)計(jì)用于通過(guò)離子濺射清潔表面,離子束能量高達(dá) 3 keV,典型離子電流高達(dá) 30 μA。該噴槍采用一種新穎的氣體噴射系統(tǒng),允許在 1 x 10 的典型腔室壓力下進(jìn)行濺射-6托。

  • 獲得專利的氣體注入系統(tǒng)避免了昂貴的差速泵送設(shè)備
  • 在低腔室壓力下濺射惰性氣體
  • 寬離子束確保均勻?yàn)R射
  • 與一般濺射清洗和 ISS 應(yīng)用兼容
  • 200 V 至 3 kV 的連續(xù)可調(diào)光束電壓
  • 帶 USB 或以太網(wǎng)接口的數(shù)字控制電子元件

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