電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

  • ● 能量范圍：1 eV 至 100 keV
  • ● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA
  • ● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優(yōu)勢(shì)：

  • ● 客戶可更換的點(diǎn)火裝置
  • ● 完全操作期間的機(jī)械對(duì)準(zhǔn)
  • ● 可存儲(chǔ)的控制設(shè)置
  • ● 電腦遙控/計(jì)量

性能：

  • ● 光束電流穩(wěn)定性：反饋穩(wěn)定的發(fā)射電流控制；優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%
  • ● 能量穩(wěn)定性：每小時(shí) ± 0.01%，滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應(yīng)用：

  • ● 快速脈沖/光束消隱
  • ● 偏轉(zhuǎn)/光柵
  • ● 槍式法拉第杯

低能量電子槍（最大 5keV）

中能量電子槍（最大 30keV）

高能量電子槍（最大 100keV）