Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源

Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源

Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測(cè)校準(zhǔn)、二次離子質(zhì)譜和 MBE 離子注入。

作范圍

  • 能量范圍：10eV 至 20 keV
  • 光束電流范圍：1 nA 至 2 μA
  • 光斑尺寸范圍：500 μm 至 25 mm

多面性

  • 靈活的控制器：獨(dú)立的光纖控制和計(jì)量功能，如離子能量、源、電子能量、場(chǎng)控制、提取、聚焦、X – Y 偏轉(zhuǎn)和電子電流控制。
  • 堿金屬離子源的選擇允許不同的離子種類。

性能

  • 束流穩(wěn)定性：對(duì)于堿金屬源，使用發(fā)射電流控制時(shí)每小時(shí) ±1.0%，或在沒有 ECC 的情況下預(yù)熱后每小時(shí) ±10%。
  • 能量穩(wěn)定性：±每小時(shí) 0.01%，±滿負(fù)荷時(shí)每 8 小時(shí) 0.02%。

運(yùn)營(yíng)能力

類別 特色圖片


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