具有雙圖像顯微鏡的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

MAS + DIM

掩模對準(zhǔn)器被設(shè)計(jì)用來精確對準(zhǔn)掩模與基板。例如，使用遮光掩模可以實(shí)現(xiàn)無光刻的薄膜沉積。一旦晶圓在掩模下對準(zhǔn)，兩個(gè)基板將被夾在雙夾具中。夾緊的雙夾具與基板可以被插入物理氣相沉積室進(jìn)行蒸發(fā)。沉積完成后，雙夾具將被分開，基板可以取出。

除了遮光掩模外，Idonus 掩模對準(zhǔn)器還具有廣泛的應(yīng)用，例如：

– 遮光掩模
– 紫外光掩模
– 納米壓印
– 粘接對準(zhǔn)

簡易性

具備真空夾持能力和三軸手動(dòng)對準(zhǔn)功能，使得這款掩模對準(zhǔn)器非常易于使用。

靈活性

該對準(zhǔn)器設(shè)計(jì)用于多種晶片尺寸和形狀，無論是標(biāo)準(zhǔn)還是非標(biāo)準(zhǔn)。idonus 根據(jù)您的需求定制夾具。

精準(zhǔn)度

結(jié)合顯微鏡，可以實(shí)現(xiàn)最小 ± 5 微米的對準(zhǔn)公差。idonus 提供自己的雙影像顯微鏡用于對準(zhǔn)控制。用戶可以同時(shí)聚焦和觀察兩個(gè)對準(zhǔn)位置，以簡化對準(zhǔn)過程。